A 2003-ban megalakult Archeometriai és Régészetmódszertani tanszék létrejöttekor vetődött fel az Archeometriai Laboratórium létrehozásának lehetősége a tanszék alá tartozó kutatási egységként. A laboratórium alapját egyfelől a korábban létesített gyűjtemények (Archeozoológiai gyűjtemény, Lithotéka), másfelől a 2011-ben KMOP-4-2.1/B-10-2011-0002 „Interdiszciplináris, innovatív kutatási irányok és az ipari kooperáció infrastrukturális hátterének fejlesztése valamint új oktatási technológiák bevezetése az ELTÉ-n” címen elnyert műszerbeszerzési pályázat biztosították. Ennek köszönhetően az Archeometriai Laboratórium mára több kutatószobával (mikroszkópos labor, osteologiai kutatószoba, vékonycsiszolat műhely) rendelkező kutató- és oktatóhellyé vált, ahol a laboratóriumban dolgozó kutatókon túl vendégkutatók fogadására is lehetőség nyílik.

Laborvezető

Dr. Csippán Péter egyetemi adjunktus

Mikroszkópállomások

Az Archeometriai Laboratórium mikroszkópállomásainak célja, hogy lehetőséget biztosítson alapvető optikai megfigyelések elvégzésére, amelyek a régészet minden területén hasznos információkkal gazdagítják ismereteinket. Így a mikroszkópok segítségével a kérdéses tárgyak alapanyaga a legtöbb esetben bizonyosan meghatározható, de kiválóan alkalmas szabad szemmel nem jól látható részletek megfigyelésére (pl. feliratok), illetve a készítési és használati nyomok megfigyelésére is.

A Laboratórium helyiségében két sztereomikroszkóp, egy metallurgiai és egy polarizációs mikroszkóp kapott helyet. Ezeket két munkaállomásba szerveztük, amelyek egy sztereomikroszkópból és egy metallurgiai/illetve polarizációs mikroszkópból állnak, valamint munkaállomásonként egy-egy digitális mikroszkópkamera és a képek rögzítésére, valamint további szerkesztésére és tárolására alkalmas számítógép segíti a munkát.

A digitális mikroszkópkamerák felbontása nem csupán a megfigyelések rögzítését teszi lehetővé, de a közlésre alkalmas fotódokumentáció készítését is. A kamerákhoz tartozó programok segítségével lehetőség nyílik az elkészített képek méretaránnyal történő ellátására és különféle mérések elvégzésére. Mindezek mellett kiterjesztett fókuszú képek készítésére is lehetőség nyílik, amely nagyon hasznosnak bizonyult régészeti tárgyak egyenetlen felületének dokumentálására.

A vizsgált tárgyak előkészítéséhez ultrahangos tisztítófürdő áll rendelkezésre, valamint a mikroszkópos fázist megelőző alapvető tárgydokumentációt makro-objektívvel ellátott digitális fényképezőgép teszi lehetővé.

1. Munkaállomás

• ZEISS SteREO Discovery.V8 zoom-sztereomikroszkóp (zoomtartomány: 6,3x – 80x)
• ZIESS AxioScope A1: optikai áteső, ráeső fényű mikroszkóp (25x-500x nagyítási tartomány)
• Képalkotó rendszer: Kamera: ZEISS AxioCam MRc5 (5MP); Software: ZEISS AxioVision 4.9.1 verzió; kiterjesztett fókuszú képek: Helicon Focus 5.3 verzió

2. Munkaállomás

• AmScope SZM7045TR zoom-sztereomikroszkóp (zoomtartomány 3,6x – 45x)
• AmScope XJP-H100 metallurgiai mikroszkóp (100x, 200x, 500x nagyítás)
• Képalkotó rendszer: Kamera: QImaging Go-5 (5MP); Software: QCapture Pro 5.1 verzió; kiterjesztett fókuszú képek: Helicon Focus 5.3 verzió

3. Munkaállomás

Az ELTE BTK Régészettudományi Intézet egy NKFIA által támogatott projekt (K 132857) és az UNICAM Magyarország Kft./Olympus céggel létrejött partnerség keretében Olympus LEXT OLS5100-EAF 3D pásztázó lézer konfokális mikroszkóppal bővíti felületelemző képességeit. Ez a mikroszkóp érintésmentes 3D vizsgálatra és nagy sebességű mérésekre képes. A szubmikron szintű kiváló minőségű képalkotással és felületi 3D modellezéssel új lehetőségeket kínál az innovatív és élvonalbeli kutatásokhoz.

Olympus LEXT OLS5100: https://www.olympus-ims.com/en/microscopes/laser-confocal/ols5100/

UNICAM Kft: https://unicam.hu/

Olympus LEXT OLS5100-EAF 3D lézer pásztázó konfokális mikroszkóp

• EAF modell: 100 mm-es motoros tárgyasztal és 210 mm minta maximális magassága
• Fényforrások: fehér LED fény és lila lézer (405 nm hullámhossz)
• Objektívek: 5x (NA=0.15, WD=20mm), 10x (NA=0.3, WD=10.4mm), 20x (NA=0.6, WD=1mm), 20x (NA=0.45, WD=6.4mm), 50x (NA=0.95, WD=0.35mm), 50x (NA=0.6, WD=5mm), 100x (NA=0.8, WD=3.4mm)
• Látómező: 128 µm - 2560 µm
• Megjelenítési pontosság: XY: 1 nm; Z: 0,5 nm ISO25178 szabványnak megfelelő felület